Comparação de tecnologias de tratamento
Com a finalidade de ajudá-lo a avaliar se PLASCON® é a melhor solução para satisfazer suas necessidades de tratamento de resíduos, a seguinte tabela proporciona uma referência rápida para a comparação das tecnologias mais usadas no mercado para o tratamento de resíduos. As características mais importantes de Plascon são: incineração a alta temperatura , redução química em fase gasosa, descoloração catalítica básica, fornos de cimento e oxidação térmica são comparados.
Há muitos outros fatores a serem considerados, tais como: custos de inversão e operacionais, aprovação dos regulamentos em sua jurisdição, opinião da comunidade local e tempo de aplicação na prática. Teremos o maior prazer em discutir sua situação individual e proporcionar-lhe um assessoramento sem nenhum custo.
* Níveis da eficiência de destruição não disponíveis, Eficiência de Destruição e Remoção (DRE) proporcionadas
| Característica | Plascon |
Redução química em fase gasosa
|
Incineração a alta temperatura |
Descloração catalítica básica |
Fornos de cimento |
Oxidação térmica |
| Temperatura de destruição |
> 3000°C | Aproximadamente 850°C | > 1100°C | Aproximadamente 320°C | > 1500°C | < 1100°C |
| Eficiência de destruição |
> 99.9999% | N/A, DRE > 99.9999% * |
99.99% | 99.9% | N/A, DRE > 99% * |
N/A, DRE > 99.99% * |
| Adequado para a destruição de contaminadores persistentes orgânicos em azeite |
 |
|
|
|
|
|
| Adequado para a destruição de contaminadores persistentes orgânicos puros |
|
|
|
|
|
|
| Adequado para a destruição de gases estufa e gases consumidores da capa de ozônio |
|
|
|
|
|
|
| Adequado para a destruição de resíduos sólidos |
** |
** |
|
** |
|
** |
| Processo contínuo |
|
|
|
|
|
|
| Capaz de início rápido e de parada rápida |
|
|||||
| Pode ser localizado próximo à fonte dos resíduos |
|
|
|
|||
| Não requer um sistema adicional de filtragem para eliminar emissões da dioxina e de furano |
|
|
|
|||
| Intrinsecamente seguro em ausência de corrente elétrica ou de falha no equipamento |
|
** Depois do processo prévio apropriado